Volfrámový rozprašovací terč

Výrobcovia ZhenAn Tungsten Sputtering

Popis rozprašovania volfrámu

Medzi naprašovaný terč (katódu) a anódu sa pridá ortogonálne magnetické pole a elektrické pole a vo vysokovákuovej komore sa naplní požadovaný inertný plyn (zvyčajne plyn Ar). Pôsobením elektrického poľa sa plyn Ar ionizuje na kladné ióny a elektróny, do terča sa pridáva určité negatívne vysoké napätie.

Elektróny emitované z terča sú ovplyvnené magnetickým poľom a pravdepodobnosť ionizácie pracovného plynu sa zvyšuje, pričom sa v blízkosti katódy vytvorí plazma s vysokou hustotou.

Ar ióny sú poháňané Lorentzovou silou. Zrýchľuje sa smerom k povrchu cieľa a veľmi vysokou rýchlosťou bombarduje povrch cieľa, takže rozprášené atómy na cieli sa riadia princípom premeny hybnosti a odlietajú od povrchu cieľa s vysokou kinetickou energiou k substrátu, aby sa uložil film.

ZhenAn ponúka komplexný rad naprašovacích terčov, zdrojov odparovania a iných materiálov na nanášanie, zoradených podľa materiálu v celej lokalite. Nižšie nájdete cenové rozpočty pre naprašovacie terče a depozičné materiály, ktoré zodpovedajú vašim požiadavkám. Skutočné ceny sa môžu líšiť v dôsledku výkyvov na trhu.

Tungsten (W) Všeobecné informácie

Volfrám, tiež známy ako volfrám, je jedným z najhustejších prvkov na svete. Má hustotu 19,3 g/cm3, bod topenia 3 410 stupňov a tlak pár 10-4 Torr pri 2 757 stupňoch.

Vzhľad je sivobiely a lesklý. Je známe, že má najvyšší bod topenia zo všetkých kovov a jeho charakteristická tvrdosť sťažuje jeho opracovanie a kovanie v čistej forme.

Volfrám sa bežne používa na výrobu elektrických vlákien. Karbid volfrámu sa nachádza vo vrtákoch, pílach a šperkoch. Volfrám sa odparuje vo vákuu a používa sa pri výrobe polovodičov, palivových článkov a senzorov.